老旧设备支持

SSE / ATMSSE

备件、服务和升级

Maximus 804

适用于 3 至 8 英寸晶圆的涂胶显影及剥离轨道式系统。

Opticoat

用于 16 英寸及以上大尺寸方形基片的涂胶。

工位维修

涂胶、显影、热板和冷板工位。

停产备件

PMA 模块、Metronix 旋涂控制器和旋涂电机。

SSE的故事

SSE为半导体、电信/光电市场和平板显示器(FPD)设计、制造和分销领先的制造设备。

通过创新工程和对半导体制造工艺的透彻了解,SSE能够提供其他资本设备制造商无法提供的标准和定制解决方案。

SSE的产品分为三类:

  • 半自动晶圆和基片加工设备(用于实验室)
  • 自动光刻胶加工设备
  • 晶圆贴膜和晶圆制备设备

SSE服务

我们在全球范围内为SSE Sister Semiconductor Equipment GmbH / ATM SSE的各类设备提供服务:

  • Maximus 804涂胶显影及剥离(lift-off)轨道式系统
  • Optiwet
  • Opticoat
  • Optihot

我们维修和翻新所有工位,如涂胶、显影、热板和冷板工位。

我们大量的备件库存包括PMA控制器模块、Metronix旋转控制器、旋转电机以及大量已停产的零件。

Spin Coater 维修 →

SSE项目

Maximus 804涂胶显影系统,配备Genmark机器人或Isel机器人。

Maximus 804涂胶显影系统,配备Genmark机器人或Isel机器人。

该系统与Suss Microtec的Gamma 60/80类似。Maximus可处理3英寸至8英寸的晶圆。借助其封闭盖式吸盘(Closed Cover Chuck),可在方形基片上获得更好的涂胶均匀性。

开放式胶碗涂胶机,配备步进电机驱动的滴胶臂。

开放式胶碗涂胶机,配备步进电机驱动的滴胶臂。

工艺结束后,顶针将晶圆传回机器人的末端执行器。

适用于大尺寸基片的Optiwet显影、蚀刻、清洗系统

适用于大尺寸基片的Optiwet显影、蚀刻、清洗系统

手动上片。步进电机驱动的滴胶臂。

SSE Opticoat 75

SSE Opticoat 75

这些设备用于大尺寸方形基片的涂胶,尺寸可达16英寸或更大。

该设备配有伺服电机驱动的空气阻隔板,可向吸盘闭合,从而获得更好的涂胶效果,类似于Suss Microtec的Gyrset效果。

滴胶臂可编程,但在大多数晶圆厂中并未使用该功能。

Optiwet工艺室 

Optiwet工艺室 

Optiwet工艺腔配有2个滴胶臂和多种喷嘴,用于去离子水、清洗或蚀刻介质,以及N2或CDA旋转干燥。还可进行背面冲洗。Optiwet还集成了废液管理系统,可将去离子水与工艺介质分离。

视频

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请告诉我们设备型号、故障情况和时间安排。我们会回复评估意见、现有备件,以及维修或升级所需的工作量。

+49 170 28 444 35
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