Iwaki – Bomba neumática de fuelle – SB-4S-ML – Bomba neumática de fuelle / dosificador de fotorresina-Usada – 07103324

Descripción

Bomba neumática de fuelle Iwaki SB-4S-ML Dosificador de fotorresina 15mL Semiconductores 07103324

Bomba neumática de fuelle Iwaki SB-4S-ML para la dosificación de precisión de fotorresina en la fabricación de semiconductores. Capacidad máxima de descarga de 15 mL/carrera, presión máxima de descarga de 0.05 MPa.

Cabezal de bomba de acero inoxidable (SUS304) con fuelle de PTFE y válvula de Hastelloy C276. La versión ML incluye tope mecánico para el ajuste de carrera e interruptor de proximidad para la detección de posición.

Presión del aire de alimentación 0.15-0.4 MPa. Montaje horizontal o vertical. Número de serie 07103324.

Ideal para líneas de proceso de fotolitografía y dosificación química de precisión.

Desmontada de un entorno de fabricación en funcionamiento.

Resumen del producto

La Iwaki SB-4S-ML (n.º de serie 07103324) es una bomba neumática de fuelle de precisión diseñada para la dosificación de fotorresina en sistemas de fotolitografía de semiconductores.

Especificaciones del producto:

• Capacidad de descarga: 15 mL/carrera (máx. nominal)

• Presión de trabajo: descarga máxima de 0.05 MPa, aire de alimentación de 0.15–0.4 MPa

• Construcción de las partes en contacto con el fluido: cabezal de bomba de acero inoxidable SUS304, fuelle de PTFE (sellado), válvula de Hastelloy C276 para resistencia química

• Configuración ML: incluye dial de tope mecánico para el ajuste fino del volumen de descarga e interruptor de proximidad (final de carrera) para la detección de la posición del pistón

• Flexibilidad de montaje: puede instalarse en horizontal o en vertical

• Diseño sin contaminación: materiales inoxidables/fluorados, volumen muerto mínimo, el fuelle soldado elimina las fugas

• Frecuencia de carrera típica: 2–150 SPM según la presión de aire y los ajustes del controlador

• Masa: ~1.5 kg

Aplicaciones:
Las bombas de la serie SB son estándar en la industria para procesos de fotolitografía de semiconductores, incluidos el recubrimiento con fotorresina, la dosificación de poliimida y la dosificación de productos químicos de alta pureza en líneas de proceso.